芯片世界：集成电路探秘

中国科学院院士 集成电路专家 邹世昌讲述自身成长的小故事，回答孩子们最感兴趣的问题，讲述了芯片的小知识，更重要的是联系我国集成电路产业的现状，让科普同实际密切相连。

邹世昌（1931.7.27-）材料科学家，江苏太仓人。1948年就读于中国纺织工学院（今东华大学）后转入唐山交通大学[1] ，1952年毕业于交通大学唐山工学院（即唐山交通大学，现西南交通大学）。1958年获苏联莫斯科有色金属学院副博士学位。历任中国科学院上海冶金研究所研究员、所长。曾参加直空阀门甲种分离膜的研制，并担任工艺组负责人，该成果1984年获国家发明奖一等奖。在国内较早开展了离子束材料改性与离子束分析的研究工作。在中国最早将离子注入应用于半导体集成电路，首先建立了离子背散射沟道技术，并应用于半导体材料及器件。研究离子注入硅单晶的激光退火行为，离子注入多晶硅的激光再结晶，并研制成高CMOS器件。